?   工業(yè)CT設(shè)備測(cè)量誤差主要來(lái)源分析可以從以下幾個(gè)方面著手，尤其需要注意的是在利用高精度外部尺寸測(cè)量結(jié)果對(duì)工業(yè)CT數(shù)據(jù)進(jìn)行校準(zhǔn)時(shí)，尤其對(duì)于使用平板探測(cè)器的系統(tǒng)來(lái)說(shuō)，需要校準(zhǔn)的尺寸應(yīng)包含樣品X-Y和X-Z兩個(gè)平面(即平行和垂直與探測(cè)器的平面)，工業(yè)CT設(shè)備數(shù)據(jù)在這兩個(gè)方向上單個(gè)像素尺寸往往并不相等，這取決于重建矩陣的選擇。故在工業(yè)CT掃描過(guò)程中，應(yīng)盡量避免樣品放置時(shí)上下端面與射線(xiàn)平行，或者說(shuō)應(yīng)該盡量避免樣品上下端面垂直于旋轉(zhuǎn)軸，否則導(dǎo)致樣品上下端面應(yīng)采樣不足，帶來(lái)SDK重建為引，去掉因采樣不足導(dǎo)致的重建為引可以通過(guò)改變樣品的放置方式來(lái)解決，

   從投影重建圖像過(guò)程中，主要的影響因素來(lái)自于射線(xiàn)硬化及射線(xiàn)散射帶來(lái)的圖像，硬化和散射偽影，導(dǎo)致圖像灰度分布，偏離真實(shí)分布，給后續(xù)測(cè)量及閾值風(fēng)格帶來(lái)困難，這些偽影如果不經(jīng)過(guò)適當(dāng)?shù)男Ｕ瑫?huì)導(dǎo)致測(cè)量的可靠性降低。

   一般來(lái)說(shuō)減弱射線(xiàn)硬化影響，可以通過(guò)在采集數(shù)據(jù)時(shí)放置前置濾波板來(lái)調(diào)節(jié)，也可以通過(guò)后續(xù)硬化校正算法來(lái)改良。

   數(shù)據(jù)處理過(guò)程中影響工業(yè)CT設(shè)備測(cè)量的主要因素有邊界閾值的選擇。例如工業(yè)CT重建之后獲得物體的三維模型，在這一數(shù)據(jù)進(jìn)行測(cè)量之前，需要選擇適當(dāng)?shù)挠蛑邓惴▉?lái)分割材料與空氣或不同材料之間的邊界，也就是所謂的邊緣檢測(cè)過(guò)程，傳統(tǒng)的閾值算法可能不夠準(zhǔn)確，現(xiàn)在我們將通過(guò)改進(jìn)算法，例如使用基于實(shí)際表面的邊緣檢測(cè)算法，或通過(guò)搜索圖像法的方向像素變化能提高邊緣檢測(cè)的精度。